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专利申请疑难解答

2021年黄山市集成电路布图设计申请条件、材料及保护期

文字:[大][中][小] 手机页面二维码 2021/6/9     浏览次数:    

集成电路布图设计是一项智力劳动成果,是制造集成电路产品中非常重要的一个环节,可以申请登记保护。那么,2021年黄山市集成电路布图设计申请条件是什么?需要哪些申报材料?保护期多久?
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黄山市集成电路布图设计专有权的保护期限:
布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。但是,无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,不再受本条例保护。
15年*长保护期的意思是说从设计完成之日起15年内属于保护期,如果你是完成后10年申请的,那么保护期就只有5年。
黄山市集成电路布图设计申请条件:
1、要求保护的布图设计必须具有独创性,即该布图是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时,该布图设计不是布图设计创作者和集成电路制造者中公认的常规设计;
2、受保护的由常规设计组成的布图设计,其组合作为整体同样应当具有独创性。
黄山市申请登记集成电路布图设计需要提交哪些材料?
集成电路布图设计的申请人应提交的文件和样品包括:
1、布图设计登记申请表;
2、布图设计的复制件或图样;
3、布图已投入商业使用的,应提交含有该布图的集成电路样品;

4、知识产权局规定的其他材料。

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